高反射（HR）镀膜，包括高反射电介质镀膜和金属镀膜。

在某些波长范围内提供高反射，并广泛用于激光系统和其他光学元件。

HR镀膜由于其低吸收的特性而提供了更有效和高效的光谱性能。

这些反射镜镀膜还可以进一步定制，以提供除了特定反射带之外的附加高通或低通波长性能。

   单波长HR镀膜

基底熔融二氧化硅，BK7

632.8nm处的表面形状<λ/10

表面质量40-20

倒角0.5mm，45°

镀膜材料电子束沉积电介质多层

入射角 0°、45°

通光孔径>中心直径的85%

双波长HR镀膜

基底熔融二氧化硅，BK7

632.8nm处的表面形状<λ/10

表面质量40-20

倒角0.5mm，45°

镀膜材料电子束沉积电介质多层

入射角0°、45°

通光孔径>中心直径的85%

宽带AR镀膜

基底熔融二氧化硅，BK7

632.8nm处的表面形状<λ/10

表面质量40-20

倒角0.5mm，45°

镀膜材料电子束沉积电介质多层

入射角 0°

通光孔径>中心直径的85%

再膨胀：

350-650<0.5%

420-670<0.5%

650-1050<0.5%

1050-1550<0.5%

其他波长、入射角和尺寸可根据要求提供！